특허보유현황
플라즈마 방전을 이용한 반도체 세정장치 및 세정방법
출원인
한국기계연구원|주식회사 다원시스
등록상태
등록
출원번호
1020050080968
출원일
2005-08-31
공개번호
1020070025149
공개일
2007-03-08
등록번호
1007406380000
등록일
2007-07-11
IPC 분류
H10P 72/00|H10P 10/00
대표도면
요약
본 발명은 수중 플라즈마 방전을 이용한 반도체 세정장치 및 세정방법에 관한 것으로, 수중에서의 플라즈마 방전을 안정적으로 유지하고, 상기 플라즈마 방전 시 발생되는 산화력이 높은 활성라디칼을 포함한 세정수를 이용하여 반도체 웨이퍼를 세정함으로써, 경제적 측면에서 유리하고, 세정효율도 높으며, 화학 화합물에 의한 재오염을 방지할 뿐만 아니라, 화학폐수 처리량 또한 적은 플라즈마 방전을 이용한 반도체 세정장치 및 그 방법을 제공하기 위하여, 반도체 세정용의 초순수수를 공급하는 초순수수 공급부와; 상기 초순수수 공급부로부터 초순수수를 공급받으며, 소정부위에 세정수 배출부를 구비하는 반응기와; 상기 반응기 내부에 설치되는 한 쌍 이상의 전극과, 상기 전극에 전원을 인가하는 전원인가 유닛과; 상기 반응기로 공기를 공급하여 상기 한 쌍의 전극 사이가 물과 공기의 2상 공간이 되도록 유도하는 공기주입유닛과; 상기 세정수 배출부에서 배출된 세정수를 습식 세정장치로 공급하여 주는 세정수 공급부를 포함하는 플라즈마 방전을 이용한 반도체 세정장치를 제공한다. 반도체, 플라즈마, 방전, 활성라디칼, 세정장치
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