특허보유현황
※ 본 공고는 설정등록된 특허(특허법 제87조)를 기준으로 작성되었으며, 최신 특허출원은 설정등록 이후 순차적으로 반영됩니다.
플라즈마 반응장치 및 이를 이용한 플라즈마 반응방법
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020050094929
출원일
2005-10-10
등록번호
1005868800000
등록일
2006-05-29
IPC 분류
H01J 37/32
대표도면
요약
본 발명은 플라즈마 반응장치 및 이를 이용한 플라즈마 반응방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 원료가 스월구조의 유입홀로 유입되도록 하여 유입되는 원료가 회전류를 형성면서 진행하게 되고, 이에 따라 상기 원료가 제한된 체적의 플라즈마 반응공간에서도 충분히 반응됨과 동시에 보다 빠른 고온 플라즈마 반응을 이룰 수 있으며, 또한, 반응로의 상부의 폭이 확장되어 형성된 광역챔버를 통해 플라즈마 반응대가 배출전 확장되도록 하고, 확장단에 전극과 일정 이격된 모서리가 형성되도록 하여 형성된 플라즈마가 팽창 및 정체됨에 따라 플라즈마 반응대의 불연속성을 배제시킬 수 있는 플라즈마 반응장치 및 이를 이용한 플라즈마 반응방법에 관한 것이다. 플라즈마, 스월, 원추, 전극, 방전, 확장
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