특허보유현황
세정용 초음파 장치 및 이를 이용한 초음파 세정시스템
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020060042597
출원일
2006-05-11
등록번호
1007025960000
등록일
2007-03-27
IPC 분류
H10P 72/00|B08B 3/12
대표도면
요약
본 발명은 세정용 초음파 장치 및 이를 이용한 초음파 세정시스템에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 수축팽창으로 초음파를 발생하는 다수개의 빔확산용 압전소자가 파필드 및 니어필드로 구성되는 확산층의 일측에 접합되고, 양극편의 너비 크기에 따라 확산각이 조절되어 상기 확산층을 통과하는 초음파가 상기 파필드에서 확산, 중첩이 되어 회전하는 피세정물인 웨이퍼, FPD 등의 상면 또는 하면에 고르게 분포되도록 초음파장치를 구성함으로 인해 음압의 편차를 최소한으로 감소시킴으로써, 웨이퍼 등의 손상을 최소한으로 줄이며 세정할 수 있는 세정용 초음파 장치 및 이를 이용한 초음파 세정시스템에 관한 것이다. 반도체, FPD, 초음파, 빔확산용 압전소자, 확산층, 파필드, 매엽식, 세정장치
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