특허보유현황
세정용 초음파 장치 및 이를 이용한 초음파 세정시스템
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020060042598
출원일
2006-05-11
공개번호
1020070109522
공개일
2007-11-15
등록번호
1008276180000
등록일
2008-04-29
IPC 분류
H10P 72/00|B08B 3/12
대표도면
요약
본 발명은 세정용 초음파 장치 및 이를 이용한 초음파 세정시스템에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 초음파장치가 접합 또는 삽설되는 세정조를 적분구형, 아령형, 원통형 등으로 다양하게 응용하고, 세정조 내부에 반사판을 설치하여 초음파를 세정조 내부에서 다수번 반사, 적분시켜 초음파를 여러각도에서 피세정물의 상, 하면에 고르게 분포시키며, 상기 피세정물 상면의 패턴손상을 방지하도록 피세정물의 후면을 통하여 세정하는 등 세정조 내부의 피세정물에 초음파가 고르게 분포되도록 음압의 편차를 최소한으로 감소시켜, 웨이퍼 손상을 최소한으로 줄이며 세정효과를 극대화할 수 있는 세정용 초음파 장치 및 이를 이용한 초음파 세정시스템에 관한 것이다. 반도체, 초음파, 압전소자, 반사판, 확산층, 파필드, 매엽식, 배치식, 세정장치
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