특허보유현황
열판 및 상기 열판을 적용한 고온 엠보싱 나노 임프린트리소그래피 장치
출원인
한국기계연구원|국립금오공과대학교 산학협력단
등록상태
등록
출원번호
1020060052140
출원일
2006-06-09
등록번호
1007612120000
등록일
2007-09-17
IPC 분류
H10P 76/00|B82Y 40/00
대표도면
요약
본 발명은 열판 및 상기 열판을 적용한 고온 엠보싱 나노 임프린트 리소그래피 장치에 관한 것으로, 상기 열판은 육면체 형상의 모재의 측면에 길이방향으로 다수개의 관통홀(냉각홀, 가열홀)을 규칙적으로 형성시키고, 상기 모재가 가열 또는 냉각이 되도록 가열수단 및 냉각수단을 구비하며, 상기 냉각홀 및 가열홀은 서로 엇갈리게 배치하는 것을 특징으로 한다. 상기 가열수단은 해당 관통홀(가열홀) 내에 삽입된 일자형 카트리지 히터인 것이 바람직하다. 또한, 본 발명은 어느 하나의 냉각홀, 상기 냉각홀과 이웃하는 냉각홀을 통과하는 기체의 이동 방향이 서로 반대인 것을 특징으로 한다. 또한, 본 발명은 상기 냉각홀 및 가열홀은 서로 엇갈리게 배치하는 것을 특징으로 한다. 이상에서와 같이, 본 발명은 열판 본체(모체) 내부에 일자형 히터와 냉각홀을 병렬로 배치하여 가열과 냉각 기능을 동시에 제공함으로써 열판의 구조가 단순하여 프레스 압력에 대응하기 쉬우며 무엇보다 대면적으로 확장성이 뛰어나다. 열판, 고온 엠보싱 나노 임프린트, 가열홀, 냉각홀, 일자형 히터
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