특허보유현황
슬롯형 리모트 저온 플라즈마 반응기
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020060064713
출원일
2006-07-11
공개번호
1020080006053
공개일
2008-01-16
등록번호
1008056900000
등록일
2008-02-14
IPC 분류
H01J 37/32|H05H 1/46
대표도면
요약
본 발명은 슬롯형(slot type) 저온 플라즈마 반응기에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 대면적에 플라즈마를 발생시키도록 "ㄷ" 형상으로 길게 형성된 2개의 세라믹 유전체판을 상호 대향되도록 설치하여, 이격된 슬롯형상으로 형성시키며, 슬롯형상사이로 투입 공정가스가 통과하도록 하며, 상기 세라믹 유전체판의 일측에는 고전압 전극이 장착되며, 이에 대응되는 다른 세라믹 유전체판의 일측에는 상기 고전압 전극에 대응되는 플라즈마 발생용 접지 전극이 장착되어, 두 유전체 판 사이에 글로우 모드로 운전되는 저온 플라즈마를 발생시키도록 하며, 상기 세라믹 유전체판의 내부에는 강제 냉각을 위한 채널을 포함하여 절연물질로 충진시키며, 외부에는 외부 세라믹 판을 부착하여 밀봉시키도록 이루어진 슬롯형 리모트 플라즈마 반응기에 관한 것이다. 이는 교류전원을 사용한 유전체 장벽 방전 방식(dielectric barrier discharge)으로 구성되어 있으며, 대기압 상태에서도 적절한 교류전원의 주파수와 방전 간극을 선정하여 발생되는 플라즈마의 상태를 글로우(glow) 모드로 운전할 수 있으며, 이 때 사용되는 가스를 고속으로 분사하여 발생된 플라즈마를 반응기 외부로 분출시켜 리모트(remote) 플라즈마 상태로 최종 이용하게 된다. 본 발명에 따른 슬롯형 리모트 플라즈마 반응기는 반도체, 디스플레이 등 각종 IT...(이하생략)
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