특허보유현황
리모트 저온 플라즈마 반응기
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020060127668
출원일
2006-12-14
등록번호
1008209160000
등록일
2008-04-02
IPC 분류
H10P 50/20|H10P 72/00
대표도면
요약
본 발명은 리모트 저온 플라즈마 반응기에 관한 것으로 상세하게는 플라즈마 반응기에 있어서, 플라즈마 반응기에 있어서, 대면적에 플라즈마를 발생시키도록 세라믹종류의 유전체 상측에 소정폭과 소정 깊이를 가지며, 길이방향으로 형성되고, 상측으로 향하며, 단면상 'ㄷ'자 형태의 홈을 가공하여 내측면의 표면 전체에 'ㄷ'자 형태로 금속전극을 코팅하고, 상기 금속전극의 표면을 보호 및 절연을 위한 보호절연코팅재를 상기 금속전극 표면에 코팅하며, 상기 유전체의 하단측에 접지전극홈이 형성되어지고, 상기 접지전극홈에 접지전극을 코팅하며, 상기 접지전극의 표면에 절연코팅재를 코팅하고, 플라즈마의 발생을 위하여 다수개의 유전체를 일정간격 이격 배치시켜 구성된 것을 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 리모트 저온 플라즈마 반응기에 관한 것이다. 리모트, 플라즈마, 유전체, 세라믹, 코팅
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