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한국기계연구원

등록

1020060137947

2006-12-29

1007848260000

2007-12-05

H10P 76/00|B82Y 40/00

본 발명은 투명한 롤형상의 스템프를 광경화수지가 도포된 웨이퍼와 접촉시켜 회전시킴과 동시에 자외선광을 조사함으로써 롤스템프를 투과한 빛이 웨이퍼에 도포된 광경화수지에 조사되어 패턴을 성형토록 하여 대면적의 나노패턴 성형이 가능하게 하며, 자외선광을 이용함으로써, 상온, 저압상태에서도 나노패턴을 성형할 수 있도록 하는 롤스템프를 이용한 나노임프린팅 리소그래피장치에 관한 것으로, 베이스; 상기 베이스에 설치된 양측 프레임상에 왕복슬라이드 가능하게 설치되는 메인플레이트; 상기 메인플레이트에 관통되게 설치되고 그 하부에 설치된 유압수단에 의해 승하강하는 슬라이딩블록; 상기 슬라이딩블록에 탑재되어 승하강 및 수평 왕복이동하고 그 상부에 웨이퍼를 장착하는 웨이퍼 플레이트를 갖는 웨이퍼 어셈블리; 상기 슬라이드블록에 설치되고 상기 웨이퍼 어셈블리를 수평으로 직선왕복운동시키는 액츄에이터; 표면에 패턴이 형성된 롤형상의 몸체가 자외선이 투과할 수 있도록 투명소재로 이루어지며, 상기 패턴이 웨이퍼 어셈블리에 장착된 웨이퍼상에 전사될 수 있도록 모터의 구동에 의해 회전하는 롤스템프; 및 상기 롤스템프에 자외선을 조사하여 웨이퍼에 투과되도록 하는 자외선발생수단;을 포함한다. 임프린팅, 웨이퍼, 롤스템프, 자외선, 몰드, 패턴, 전사, 리소그래피

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