특허보유현황

진공챔버 내에서 복합방식으로 패턴을 임프린팅하는나노임프린트장치
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020070043670
출원일
2007-05-04
등록번호
1008411720000
등록일
2008-06-18
IPC 분류
H10P 76/00
대표도면
진공챔버 내에서 복합방식으로 패턴을 임프린팅하는나노임프린트장치 대표도면
요약
본 발명은 진공챔버 내에서 자외선과 열 및 하중, 자외선 및 하중, 그리고 열 및 하중 중 어느 하나의 방식을 이용한 복합방식으로 패턴을 임프린팅시키는 나노임프린트장치에 있어서, 하향 이동하는 상부챔버와 상향 이동하는 하부챔버로 이루어져서 상호 결합에 의해 진공상태를 형성하는 진공챔버; 상기 진공챔버의 상부에 설치되어서 내부로 자외선을 발생시켜 조사하는 광원부; 상기 진공챔버 내부의 상부에 스탬프 고정부재로 고정설치되며, 투명 재질로 이루어진 투명 스탬프와 불투명한 재질로 이루어진 불투명 스탬프로 이루어진 임프린팅 스탬프; 길이 및 폭 방향으로 균일하게 가열하기 위한 가열부재와 온도를 측정하여 균일하게 온도를 제어할 수 있도록 한 온도센서를 갖춘 핫플레이트; 기판을 임프린팅 위치까지 이동시키고 고정시키는 이송부재; 상기 진공챔버의 하부에 설치되어서 상하 방향으로 이동하며, 패턴을 임프린팅시키기 위해 상기 임프린팅 스탬프와 기판 사이에 압력을 가하는 가압부재; 패턴을 임프린팅할 때 가해지는 하중에 따라 상기 임프린팅 스탬프와 기판 사이의 평행도를 제어하는 레벨러; 및 시스템의 구동 및 동작을 제어하는 제어기;를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다. 나노임프린트, 스탬프, 진공챔버, 광원, 핫플레이트
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