특허보유현황
임프린트 리소그래피용 스탬프 및 이를 이용한 임프린트리소그래피방법
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020070050474
출원일
2007-05-23
공개번호
1020080103325
공개일
2008-11-27
등록번호
1008812330000
등록일
2009-01-22
IPC 분류
G03F 7/00|H10P 76/00|B82B 3/00|B82Y 40/00
대표도면
요약
본 발명에 따른 임프린트 리소그래피 방법은 잔류층을 용이하게 제거할 수 있도록, 모패턴의 상면에 요철부가 형성된 스탬프를 준비하는 단계와, 기판 상에 폴리머층을 형성하는 단계와, 상기 스탬프로 상기 폴리머층을 가압하여 패턴을 형성하는 단계와, 상기 폴리머층을 경화시키는 단계, 및 상기 스탬프를 상기 폴리머층에서 분리한 후, 상기 패턴 사이에 형성된 잔류층을 에칭하는 단계를 포함한다. 임프린트 리소그래피, 요철부, 잔류층, 나노
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