특허보유현황
플라즈마 에칭을 이용한 마이크로-나노 패턴의 제작 방법
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020080067082
출원일
2008-07-10
공개번호
1020100006748
공개일
2010-01-21
등록번호
1009519150000
등록일
2010-04-01
IPC 분류
H10P 76/00|H10P 50/20|B82Y 40/00
대표도면
요약
본 발명에 따른 마이크로-나노 패턴 제작 방법은 마이크로-나노 복합 패턴을 용이하게 제작할 수 있도록 기판을 준비하는 단계와, 상기 기판 상에 레지스트층을 도포하는 단계와, 상기 기판상에 마이크로 패턴을 형성하는 단계와, 상기 기판 상에 폴리머층을 형성하는 단계, 및 상기 폴리머층을 플라즈마 에칭하여 나노 패턴을 형성하는 단계를 포함한다. 마이크로, 나노, 반사 방지, 플라즈마, 에칭
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