특허보유현황
다공성 이산화티탄 광촉매막 및 이의 제조방법
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020080070226
출원일
2008-07-18
공개번호
1020100009374
공개일
2010-01-27
등록번호
1009518970000
등록일
2010-04-01
IPC 분류
B01J 35/60|B01J 37/02|B01J 35/00|B01J 21/06
대표도면
요약
본 발명은 오염물질과의 접촉면적이 확대되도록 미세기공을 형성한 다공성 이산화티탄 광촉매막 및 이의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 의한 다공성 이산화티탄 광촉매막은, 20 내지 45%의 부피비로 다수 미세기공(210)이 형성되며, 상기 미세기공(210)은, 10㎛미만의 내경을 갖는다. 본 발명에 의한 다공성 이산화티탄 광촉매막의 제조방법은, 이산화티탄에 부피비 20 내지 45%의 인산칼슘을 혼합하는 분말혼합단계(S100)와, 상기 혼합분말을 모재(240) 일측에 상온 진공 분말 분사법(Room Temperature Powder Spray in Vacuum)으로 증착하여 복합코팅막(220)을 형성하는 복합코팅막형성단계(S200)와, 상기 복합코팅막(220)에 포함된 인산칼슘을 제거하여 미세기공(210)을 형성하는 미세기공형성단계(S300)로 이루어진다. 본 발명에 따르면, 오염물질에 대한 광촉매 효율이 향상되는 이점이 있다. 오염물질, 광촉매, 다공성, 이산화티탄, 상온 진공 분말 분사법
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