특허보유현황
건식 식각 또는 습식 식각을 이용한 금속 나노 패턴의 제작방법
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020080070252
출원일
2008-07-18
등록번호
1009350190000
등록일
2009-12-23
IPC 분류
H10P 76/00|B82Y 40/00
대표도면
요약
본 발명에 따른 금속 나노 패턴 제작 방법은 금속 나노 패턴을 용이하게 제작할 수 있도록, 기판을 준비하는 단계와, 상기 기판 상에 나노 패턴을 형성하는 단계, 상기 나노 패턴 위에 금속층을 형성하는 단계, 상기 금속층 위에 평탄화 폴리머층을 형성하는 단계, 상기 금속층이 부분적으로 표면에 나타나도록 금속층과 평탄화층을 식각하는 상부 식각 단계, 및 상기 나노 패턴의 홈의 위쪽에 금속층이 잔류하고 상기 나노 패턴의 상면이 외측으로 노출되도록 식각하는 패턴 식각 단계를 포함한다. 마이크로, 나노, 반사 방지, 플라즈마, 에칭
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