특허보유현황
나노임프린트 리소그래피를 이용한 나노잉크의 패턴 형성방법
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020080109714
출원일
2008-11-06
공개번호
1020100050697
공개일
2010-05-14
등록번호
1010174030000
등록일
2011-02-17
IPC 분류
H10P 76/00|B82Y 40/00
대표도면
요약
본 발명은 나노잉크의 초미립자가 독립상태로 균일하게 분산되게 함으로써 나노잉크의 패턴을 형성하는 나노임프린트 리소그래피를 이용한 나노잉크의 패턴 형성방법에 관한 것으로, 유동성을 갖는 나노잉크가 패턴이 각인된 스탬프와 접촉하였을 때 패턴 형상이 만들어지고 형성된 나노잉크 패턴 내부의 용매가 스탬프에 흡수되고 패턴이 고체화되어 스탬프가 이형된 이후에도 안정한 패턴을 유지하게 하는 방법과, 공정상의 제약으로 나노잉크의 유동성이 부족하여 잔류층이 존재하는 패턴이 형성될 경우 스탬프에 나노잉크의 용매를 흡수시켜 임프린트 중에 이 용매가 분출되게 함으로써 나노잉크에 유동성을 부여하여 잔여층이 없는 패턴을 형성할 수 있게 하는 방법을 제공한다. 임프린트 리소그래피, 나노잉크, 도전성 페이스트, 금속, 나노입자
전문보기
기술이전 상담신청