특허보유현황
내부식성의 반도체/LCD 공정 배가스 정전 후처리 장치
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020080115714
출원일
2008-11-20
공개번호
1020100056753
공개일
2010-05-28
등록번호
1010150570000
등록일
2011-02-09
IPC 분류
H10P 72/00
대표도면
요약
본 발명은 반도체 및 LCD 제조공정 등에서 배출되는 다량의 산성가스를 포함하는 배출가스를 처리하는 내부식성의 반도체/LCD 공정 배가스 정전 후처리 장치에 관한 것이다. 이러한 본 발명의 내부식성의 반도체/LCD 공정 배가스 정전 후처리 장치는, 유입구로 유입되는 배출가스의 미세입자를 하전시키는 하전부와, 상기 하전부의 후단에 설치되어 하전된 미세입자를 집진하는 집진부와 하전부의 방전판과, 집진부의 집진판에 수막을 형성시키는 수막용 분사장치로 이루어진 전기집진장치와, 상기 전기집진장치의 후단에 패킹볼이 충진되어 있는 스크러버에 배출가스를 유입시키고, 상기 스크러버에 세정액을 정전분무시켜 배출가스의 처리하는 스크러버장치로 이루어진다. 산성가스, 반도체, LCD, 전기집진장치, 스크러버장치
전문보기
기술이전 상담신청