특허보유현황
쉐도우 증착과 나노전사 프린팅을 이용한 나노임프린트 리소그래피의 패턴전사 방법
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020080132867
출원일
2008-12-24
공개번호
1020100074434
공개일
2010-07-02
등록번호
1010225060000
등록일
2011-03-08
IPC 분류
H10P 76/00|B82Y 40/00
대표도면
요약
본 발명은 나노임프린트 리소그래피 공정에 쉐도우 증착과 나노전사 프린팅 방법을 도입하여 양각 및 음각 나노구조물을 동시에 제조하는 쉐도우 증착과 나노전사 프린팅을 이용한 나노임프린트 리소그래피의 패턴전사 방법에 관한 것으로, 상기 나노임프린트 리소그래피 공정을 이용하여 기판의 상면에 도포된 레지스트에 양각 나노임프린트 스탬프로 임프린팅하는 단계; 전자빔 증착기(e-beam evaporator)로 쉐도우 증착하여 임프린트된 패턴의 상면을 금속박막으로 마스킹하는 단계; 상기 산소 플라즈마 에칭으로 잔류층을 제거하는 단계; 전자빔 증착으로 나노구조물을 증착하는 단계; 상기 나노임프린트된 레지스트 패턴을 프린팅 몰드로 하여 티올잉크가 도포된 기판 위에 나노전사 프린팅하여 음각 나노구조물을 구현하는 단계; 상기 기판으로부터 프린팅 몰드를 분리하고 임프린트 레지스트를 아세톤에서 리프트 오프(lift-off)를 실시하여 양각 나노구조물을 구현하는 단계;를 포함하여 이루어진다. 나노임프린트 리소그래피, 쉐도우 증착, 나노전사 프린팅
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