특허보유현황
저온 열처리 공정을 이용한 다공성 세라믹 후막의 제조방법 및 이에 의해 제조되는 나노크기의 기공을 가지는 다공성 세라믹 후막
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020090032109
출원일
2009-04-14
공개번호
1020100113685
공개일
2010-10-22
등록번호
1010792490000
등록일
2011-10-27
IPC 분류
C04B 38/06|C04B 38/00|C04B 35/622|C04B 35/01|H01M 4/86|H01M 4/90
대표도면
요약
본 발명은 저온 열처리공정을 이용한 다공성 세라믹 후막의 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 세라믹 분말과 유기물 기공 형성체 분말을 분말혼합하는 단계(단계 1); 상기 단계 1의 혼합분말을 상온진공분말분사법으로 모재 일측에 증착하는 단계(단계 2); 및 상기 증착막에서 열처리공정으로 유기물 기공 형성체를 제거하여 다공성 세라믹 후막을 제조하는 단계(단계 3)를 포함하는 저온 열처리공정을 이용한 다공성 세라믹 후막의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 다공성 세라믹 후막의 제조방법은 상온진공분말분사법을 이용하여 코팅막을 제조하고, 저온 열처리를 통해 모재와의 반응에 영향을 미치지 않는 다공성 막을 형성할 수 있으며, 상기 방법으로 제조된 다공성 세라믹 후막은 나노크기의 기공 및 입자분포를 가지므로 전극의 활성을 증가시켜 고체연료전지, 촉매, 염료감응태양전지 및 가스센서 등의 다공성 세라믹 후막에 유용하게 사용할 수 있다. 세라믹 분말, 유기물 기공 형성체 분말, 상온진공분말분사법, 고체연료전지
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