특허보유현황
역 임프린트 몰드 제조용 수지 조성물, 및 이를 이용한 역 임프린트 방법
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020090088302
출원일
2009-09-18
공개번호
1020110030740
공개일
2011-03-24
등록번호
1011323720000
등록일
2012-03-26
IPC 분류
C08L 83/06|C08L 33/06|C08L 75/16|C08F 2/50|G03F 7/00
대표도면
요약
본 발명은 역 임프린트 몰드(reversal imprint mold) 제조용 수지 조성물, 및 이를 이용한 역 임프린트 방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는 광반응성 중합체, 광반응성 단량체(monomer) 및 광개시제(initiator)를 포함하는 수지 조성물을 사용하여 역 임프린트 몰드를 제조하고, 이를 역 임프린트 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 수지 조성물은 점도가 낮고 젖음성이 우수하여 50nm 이하의 고해상도용 나노패턴 몰드의 제작이 용이하고, 내화학성 및 기계적 강도가 우수하여 나노패턴의 내구성이 우수할 뿐만 아니라, 유연성이 우수하여 기판과의 균일한 접촉(conformal contact)이 가능하여 고분자 수지 박막 또는 패턴의 전사율을 높일 수 있는 장점이 있다. 특히 상기 몰드를 역 임프린트 공정에 이용함에 따라 2 이상의 서로 다른 고분자 수지층의 적층이 요구되는 경우에도 하부층의 손상 또는 붕괴를 최소화하여 적층소자 제조의 공정속도와 수율을 향상시킬 수 있는 장점이 있다. 광반응성 수지, 역 임프린트
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