특허보유현황
나노구조물의 갭필방법 및 이를 이용한 유기발광소자의 제조방법
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020100009904
출원일
2010-02-03
등록번호
1009958970000
등록일
2010-11-16
IPC 분류
H01L 51/56|H10K 71/00|B01J 19/12|B82Y 20/00
대표도면
요약
본 발명은 나노구조물의 갭필방법 및 이를 이용한 유기발광소자의 제조방법에 관한 것으로서, 본 발명의 일 실시예에 따른 나노구조물의 갭필방법 및 이를 이용한 유기발광소자의 제조방법은 갭(gap)이 형성된 나노구조물이 상부에 형성된 기판을 제공하는 단계; 상기 갭을 매립하도록 도포조성물을 도포하는 단계; 몰드로 도포된 도포조성물층을 가압하는 단계; 상기 몰드로 가압된 도포조성물층에 자외선을 조사하거나, 열을 가하여 금속 산화박막을 형성하는 단계; 상기 몰드를 상기 금속 산화박막으로부터 제거하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의하여, 나노구조물을 갭필하는 금속 산화박막의 상면이 평탄한 표면을 갖도록 형성되어 다공률(porosity)을 감소시킬 수 있고, 다층박막을 제조할 수 있으며, 상기 방법을 이용하여 광추출효율이 극대화된 광결정층이 구비된 유기발광소자를 제조할 수 있는 나노구조물의 갭필방법 및 이를 이용한 유기발광소자의 제조방법이 제공된다.
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