특허보유현황
다량의 산성가스를 포함하는 배출가스 처리장치
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020100014432
출원일
2010-02-18
공개번호
1020110094809
공개일
2011-08-24
등록번호
1010644980000
등록일
2011-09-06
IPC 분류
B03C 3/78|B03C 3/12|B03C 3/47|B03C 3/53|B01D 53/40
대표도면
요약
본 발명은 반도체 및 LCD 제조공정 등에서 배출되는 다량의 산성가스를 포함하는 배출가스를 처리하는 다량의 산성가스를 포함하는 배출가스 처리장치에 관한 것이다. 이러한 본 발명의 다량의 산성가스를 포함하는 배출가스 처리장치는, 공급되는 배출가스를 하전시키는 탄소섬유를 이용하여 음전하와 양전하인 양극의 전하를 공급하되, 음전하 또는 양전하 중 어느 한쪽의 전하를 많이 공급하여 배출가스 내의 미세입자를 조대화시키는 동시에 극성을 가지도록 하는 탄소섬유를 이용한 비대칭형 양극성 예비하전부와; 상기 비대칭형 양극성 예비하전부를 통과한 배출가스를 처리하는 패킹볼이 충진된 패킹볼부에 비대칭형 양극성 예비하전부에서 하전된 미세입자와 반대 극성을 가지는 세정액을 분사시키는 정전분무장치를 포함하는 정전분무 스크러버장치와; 상기 정전분무 스크러버장치를 통과한 배출가스를 처리하는 탄소섬유를 이용한 하전부와, 상기 하전부에서 하전된 배출가스 내의 미세입자와 반대극성을 가지며 산성가스로부터 보호되도록 보호층이 형성된 집진판과, 상기 집진판에 세정액을 분사하여 세정하는 세정장치를 포함하는 전기집진부로 이루어진 것이다.
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