특허보유현황
첨가제 분사부를 구비하는 유해가스 처리장치
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020100016355
출원일
2010-02-23
공개번호
1020110096858
공개일
2011-08-31
등록번호
1011523350000
등록일
2012-05-25
IPC 분류
B03C 3/013|B03C 3/38|B03C 3/41|B01D 53/60
대표도면
요약
본 발명은 첨가제 분사부를 구비하는 유해가스 처리장치에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 첨가제 분사부를 구비하는 유해가스 처리장치는 고전압이 인가된 금속섬유 또는 탄소섬유에 의해 유입된 유해가스가 이온화되는 섬유방전부; 상기 이온화된 유해가스의 분해반응을 촉진시키기 위한 첨가제를 분사하여 혼합하는 동시에 펄스인가부로부터 고전압 펄스 전원을 인가받아 상기 이온화된 유해가스를 플라즈마화하여 처리하는 방전부;를 포함하고, 상기 섬유방전부는, 상기 유해가스가 유입되는 공간을 다수 개로 구획하며 접지된 격벽과, 상기 금속섬유 또는 상기 탄소섬유를 포함하며, 다수 개로 구획된 공간에 설치되어 고전압 인가시에 이온을 발생시키는 이온발생기와, 상기 이온발생기에 고전압을 인가하도록 상기 이온발생기와 연결되는 고전압 인가수단을 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의하여, 규모가 축소되는 장비를 이용하여 향상되는 유해가스의 처리효율을 유지할 수 있는 첨가제 분사부를 구비하는 유해가스 처리장치가 제공된다.
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