특허보유현황
3차원 임프린트 리소그래피 방법
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020100054640
출원일
2010-06-10
등록번호
1010556340000
등록일
2011-08-03
IPC 분류
H10P 76/00
대표도면
요약
본 발명은 3차원 미세 형상 제작이 가능한 임프린트 리소그래피 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게 레지스트가 도포된 기판위에 2차원 형상의 스탬프(10)가 두 개 이상 중첩되어 가압된 후, 가열 또는 자외선 조사가 수행됨으로써, 복잡한 3차원 형상 제작이 가능한 3차원 임프린트 리소그래피 방법에 관한 것이다. 본 발명의 3차원 임프린트 리소그래피 방법은 스탬프(10)의 패턴이 전사되어 기판(30) 위에 미세 구조물이 형성되는 임프린트 리소그래피에 있어서, 상기 스탬프(10)는 상기 기판(30) 위에 적어도 두 개 이상 중첩되도록 상·하 방향으로 제1스탬프(11), 제2스탬프(12)…….제N-1스탬프 및 제N스탬프로 구성되는 것을 특징으로 한다.
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