특허보유현황
실리콘 웨이퍼 세정용 균일농도 오존기능수 제조 시스템과 이를 이용한 기능수 제조방법
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020100057969
출원일
2010-06-18
등록번호
1009812850000
등록일
2010-09-03
IPC 분류
C02F 1/78|C02F 1/00
대표도면
요약
본 발명은 반도체 및 태양전지 제조산업에 사용되는 결정질 실리콘 웨이퍼 또는 LCD 및 LED 기판의 세정을 위한 균일농도 오존기능수 제조 시스템과 이를 이용한 기능수 제조방법에 관한 것으로, 상세하게는 초순수를 공급하는 초순수 공급장치와, 오존가스를 생성하여 공급하는 오존생성장치와 오존가스와 초순수를 혼합하여 액체기체 접촉장치로 이송하는 인젝터와, 인젝터에서 혼합하여 이송되어 온 오존가스와 초순수를 마이크로 버블형태로 초순수 입자를 작게 하여 오존가스와의 접촉 가능성을 높여 고농도로 오존 기능수를 제조하는 액체기체 접촉장치와, 제조된 기능수가 저장되어지는 기능수 저장조와, 초기 기능수 농도보정을 위한 기능수 리턴라인과, 저장조 또는 기능수 공급 배관라인의 기능수 농도를 측정하는 기능수 농도측정장치와, 기능수의 농도를 제어하는 기능수 농도제어기와, 고농도 오존생성에 유리한 조건인 고주파수 구동방식의 펄스 폭 변조(PWM) 방식으로 구성하여 기능수 농도제어기로부터 출력되는 제어신호에 의해 주파수를 변화시켜 방전전력을 가변하여 오존생성장치로 공급하는 고주파 전력공급장치를 포함하여 구성되어 기능수를 생성하고, 생성된 기능수를 이용하여 실리콘 웨이퍼를 세정하며, 기능수의 농도를 측정하고, 오존가스 생성장치의 제어를 통해 오존가스 생성농도를 조절하여 기능수 농도를 일정하게 유지하여 세정장치에 공급되어지도록 ...(이하생략)
전문보기
기술이전 상담신청