특허보유현황
※ 본 공고는 설정등록된 특허(특허법 제87조)를 기준으로 작성되었으며, 최신 특허출원은 설정등록 이후 순차적으로 반영됩니다.
오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020100091074
출원일
2010-09-16
등록번호
1010635150000
등록일
2011-09-01
IPC 분류
H10P 50/20
대표도면
요약
오염 물질 제거용 플라즈마 반응기는 내부 공간을 형성하는 유전체와, 유전체의 양단에 고정된 제1 접지 전극 및 제2 접지 전극과, 제1 접지 전극 및 제2 접지 전극과 거리를 두고 유전체의 외면에 고정되며 각자의 교류 전원부와 연결되어 제1 교류 전압과 제2 교류 전압을 각각 인가받는 제1 구동 전극 및 제2 구동 전극을 포함한다. 제1 교류 전압과 제2 교류 전압은 180°의 위상차를 가지며, 제1 교류 전압과 제2 교류 전압의 진폭은 방전 구동 전압 진폭의 절반 값을 가진다.
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