특허보유현황
플라즈마 표면 처리장치 및 그 처리방법
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020100131840
출원일
2010-12-21
등록번호
1010851810000
등록일
2011-11-14
IPC 분류
B01J 19/08|H05H 1/24
대표도면
요약
본 발명의 목적은, 높은 전기장에 따른 아크 또는 강한 스트리머가 대상물에 작용하는 것을 방지하면서, 또한 화학적 반응성이 높은 전자나 이온과 같은 화학종의 농도가 높은 상태의 플라즈마를 대상물의 표면에 작용시키는 플라즈마 표면 처리장치를 제공하는 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 표면 처리장치는, 방전가스를 공급하는 가스 공급부, 바이폴라 전압을 공급하는 전원 공급부, 및 상기 전원 공급부에서 전극에 인가되는 제1 전압차에 의한 제1 전기장으로 방전을 일으켜 방전가스로부터 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 발생기를 포함하며, 상기 플라즈마 발생기는 상기 전극과 대상물의 표면 사이에 인가되는 제2 전압차에 의한 제2 전기장으로 플라즈마를 대상물의 표면으로 유도한다.
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