특허보유현황
대향 방전 방식을 적용한 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020110085867
출원일
2011-08-26
공개번호
1020130022877
공개일
2013-03-07
등록번호
1012514640000
등록일
2013-03-26
IPC 분류
H10P 10/00|H01J 37/32|H10P 72/00
대표도면
요약
대향 방전 방식을 적용한 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기를 제공한다. 플라즈마 반응기는 플라즈마 생성 공간을 형성하며 양단이 개방된 유전체와, 유전체의 일단에 연결된 제1 접지 전극과, 유전체의 다른 일단에 연결된 제2 접지 전극과, 유전체의 외주면에 위치하며 유전체의 원주 방향을 따라 서로간 거리를 두고 위치하는 제1 구동 전극 및 제2 구동 전극을 포함한다. 플라즈마 반응기는 제1 및 제2 구동 전극으로 둘러싸인 유전체 내부에 강한 플라즈마 방전을 유도하여 플라즈마 방전 효율을 높임으로써 오염 물질을 보다 효과적으로 제거할 수 있다.
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