특허보유현황
급속 온도 제어 및 분위기 제어 가능한 진공 열처리 장치
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020110124815
출원일
2011-11-28
공개번호
1020130058844
공개일
2013-06-05
등록번호
1012890130000
등록일
2013-07-17
IPC 분류
C21D 1/773|C21D 11/00|G01N 1/00|F27D 7/02
대표도면
요약
본 발명은 진공 열처리 장치에 관한 것으로서, 특히 진공 챔버와 시편 거치대 및 가스공급노즐을 투명한 석영으로 형성함과 동시에 상기 가스공급노즐에 다수의 가스 배출 구멍을 형성하여 고진공 분위기 제어와 급속 온도제어가 자유롭도록 함으로써, 활성이 큰 다양한 금속과 비금속에 대해 신속한 고 청정의 열처리를 이룰 수 있도록 하는 급속 온도 제어 및 분위기 제어 가능한 진공 열처리 장치에 관한 것이다. 구성은 진공 열처리 장치로서, 급속 가열을 가능하게 하는 투명 석영 배관으로 이루어지는 히터가 형성된 가열로와; 상기 가열로의 내에 형성되며, 내측에 시편을 거치하기 위한 시편 거치대와 가스를 고르게 확산 공급하기 위해 다수의 가스 배출 구멍을 갖는 가스공급노즐을 수용하는 진공 챔버와; 상기 가스공급노즐과 연결되는 가스공급기를 제어하여 진공 챔버 내의 가스 분위기를 조절할 수 있도록 하는 가스제어기와; 상기 진공 챔버의 압력과 진공도를 측정하여 조절하도록 하는 진공제어기와; 상기 가열로의 승온 및 냉각속도 제어와 단계별 온도제어가 가능한 온도제어기; 를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
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