특허보유현황
고밀도 나노패턴 형성방법
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020120012040
출원일
2012-02-06
공개번호
1020130090708
공개일
2013-08-14
등록번호
1013582460000
등록일
2014-01-27
IPC 분류
G03F 7/00|B82Y 40/00
대표도면
요약
본 발명은 고밀도 나노패턴 형성방법에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 고밀도 나노패턴 형성방법은 기판으로부터 돌출되는 복수개의 볼록부를 형성하는 볼록부 형성단계; 상기 볼록부의 양측벽에 증착되어 상호 이격되는 복수개의 나노패턴을 형성하는 나노패턴 형성단계; 상기 나노패턴이 형성되는 기판을 몰드로 하여 상기 나노패턴에 대응되는 함몰패턴을 가지는 임프린팅 스탬프를 제작하는 스탬프 제작단계; 상기 임프린팅 스탬프 상에 형성되는 함몰패턴의 폭을 증가시키는 동시에 이웃하는 함몰패턴 간의 이격거리를 감소시키는 함몰패턴 제어단계;를 포함하되, 상기 함몰패턴 제어단계에서 제작되는 임프린팅 스탬프를 이용하여 상기 볼록부 형성단계 및 상기 나노패턴 형성단계를 재수행함으로써 고밀도의 나노패턴을 형성하는 것을 특징으로 한다. 이에 의하여, 미세선폭의 나노패턴을 높은 밀도로 형성할 수 있는 고밀도 나노패턴 형성방법이 제공된다.
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