특허보유현황
나노임프린트 리소그래피 방법
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020120025991
출원일
2012-03-14
공개번호
1020130104477
공개일
2013-09-25
등록번호
1014221120000
등록일
2014-07-16
IPC 분류
G03F 7/00|G03F 7/20|G03F 1/68|H10P 76/00
대표도면
요약
본 발명은 나노임프린트 리소그래피 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게 스탬프의 패턴이 기판 위에 도포된 레지스트에 전사되며, 자외선 조사에 의해 상기 레지스트가 경화되는 나노임프린트 리소그래피 방법에 있어서, 상기 스탬프의 패턴이 전사되는 영역에 선택적으로 자외선이 조사됨으로써, 나노패턴과 마이크로패턴이 복합적으로 형성된 패턴을 제작할 수 있는 나노임프린트 리소그래피 방법에 관한 것이다.
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