특허보유현황
오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020120030686
출원일
2012-03-26
등록번호
1012997100000
등록일
2013-08-19
IPC 분류
H10P 50/20
대표도면
요약
본 발명의 목적은 구동 전극에 균일한 전압을 인가하여 균일한 플라즈마를 생성하고, 방전이 아크로 전이되는 것을 방지하며, 온실 가스의 오염 물질 제거에 효과적으로 사용되는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기를 제공한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기는, 공정 챔버와 진공 펌프 사이에 위치하며 저압 플라즈마를 생성하여 상기 공정 챔버에서 배출되는 오염 물질을 제거하며, 내부에 플라즈마 생성 공간을 형성하는 절연체, 상기 절연체의 일단에 연결되는 접지 전극, 및 상기 절연체의 다른 일단에 연결되고 무선 주파수(RF) 전원부로부터 무선 주파수의 구동 전압을 인가 받는 구동 전극을 포함한다.
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