특허보유현황
오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020120030687
출원일
2012-03-26
등록번호
1012997090000
등록일
2013-08-19
IPC 분류
H10P 50/20
대표도면
요약
공정 챔버와 진공 펌프 사이에 위치하며 저압 플라즈마를 생성하여 공정 챔버에서 배출되는 오염 물질을 제거하는 플라즈마 반응기를 제공한다. 플라즈마 반응기는 내부에 플라즈마 생성 공간을 형성하는 유전체, 상기 유전체의 양단에 각각 연결되는 제1 접지 전극과 제2 접지 전극, 및 상기 유전체의 외주면에 고정되고 교류 전원부와 연결되어 교류 구동 전압을 인가받는 구동 전극을 포함하며, 상기 구동 전극과 상기 제1 접지 전극 사이의 제1 거리는, 상기 구동 전극과 상기 제2 접지 전극 사이의 제2 거리보다 크게 설정된다.
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