특허보유현황
플라즈모닉 나노리소그래피 장치용 스탬프 제조방법 및 플라즈모닉 나노리소그래피 장치
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020120066177
출원일
2012-06-20
공개번호
1020140011505
공개일
2014-01-29
등록번호
1013994400000
등록일
2014-05-20
IPC 분류
G03F 7/00|H10P 76/00|G03F 7/20|B29C 33/42
대표도면
요약
본 발명은 플라즈모닉 나노리소그래피 장치용 스탬프 제조방법에 관한 것이며, 본 발명의 플라즈모닉 나노리소그래피 장치용 스탬프 제조방법은 기판 상에 플라즈모닉 공명(plasmonic resonance) 특성을 갖는 소재로 마련되는 금속패턴을 형성하는 금속패턴 형성단계; 상기 기판 및 상기 금속패턴의 외면에 소수성 박막을 코팅하여 소수성 처리하는 소수성 처리단계; 상기 금속패턴의 외면만 선택적으로 친수성 처리하는 친수성 처리단계; 상기 기판 및 상기 금속패턴 상에 버퍼층을 적층하는 버퍼층 적층단계; 상기 금속패턴 및 버퍼층을 상기 기판으로부터 광투과성 소재의 베이스 측으로 전사시켜 결합시키는 결합단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다. 따라서, 본 발명에 의하면, 표면 플라즈몬 에너지를 이용하여 광회절의 한계를 극복하고 미세패턴을 형성할 수 있는 플라즈모닉 나노리소그래피 장치용 스탬프 제조방법 및 플라즈모닉스 나노리소그래피 장치가 제공된다.
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