특허보유현황
대면적 표면 처리용 대기압 플라즈마 반응기
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020120068765
출원일
2012-06-26
등록번호
1012156280000
등록일
2012-12-18
IPC 분류
H01J 37/32|H10P 50/20|H10P 14/24|C23C 16/513|H05H 1/24
대표도면
요약
세정, 증착, 식각, 기판의 전처리 등과 같은 대면적 표면 처리를 위한 대기압 플라즈마 반응기를 제공한다. 대기압 플라즈마 반응기는 내부에 플라즈마 생성 공간을 형성하며 일측에 기체 주입구와 반대편 일측에 기체 배출구를 형성하는 유전 지지체와, 유전 지지체에 설치되며 전원부와 연결되는 구동 전극과, 구동 전극과 이격 배치되고 구동 전극과의 전압 차에 의해 플라즈마 방전을 유도하여 플라즈마 젯을 생성하는 접지 전극과, 유전 지지체에 설치되며 내부로 플라즈마 젯을 통과시켜 플라즈마 젯의 유동을 균일하게 분배하는 유동 분배기를 포함한다.
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