특허보유현황
가스 공급 유닛 및 이를 갖는 이온 빔 소스
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020120098798
출원일
2012-09-06
공개번호
1020140032194
공개일
2014-03-14
등록번호
1014049160000
등록일
2014-05-30
IPC 분류
H01J 37/08
대표도면
요약
이온 빔 소스의 가스 공급 유닛은 이온 빔 생성 유닛과 결합하며 이온 빔 생성 유닛의 가스 공급홀들과 연결되는 내부 공간을 형성하는 챔버와, 챔버의 외부에서 챔버를 관통하며 챔버의 내부 공간으로 가스를 공급하는 가스 공급관 및 챔버의 내부 공간에 가스 공급홀들을 커버하도록 배치되며, 내부 공간의 가스를 가스 공급홀들로 균일하게 공급하기 위한 가스 분배판을 포함한다. 가스 공급 유닛이 이온 빔 생성 유닛으로 가스를 균일하게 공급하므로 이온 빔 소스가 이온 빔을 균일하게 생성할 수 있다.
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