특허보유현황
이온 빔 소스 및 이를 갖는 증착 장치
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020120098800
출원일
2012-09-06
공개번호
1020140032195
공개일
2014-03-14
등록번호
1014477790000
등록일
2014-09-29
IPC 분류
C23C 16/50|C23C 16/44|H10P 10/00|H01J 37/32|H10P 72/00|H01F 7/02
대표도면
요약
이온 빔 소스는 상면에 방전 공간을 가지며, 내부에 상기 방전 공간으로 가스를 공급하기 위한 상기 가스 공급홀들을 갖는 몸체와, 상기 몸체의 상면에 상기 방전 공간을 노출하도록 구비되며, 전원의 인가없이 부유(floating)되는 음극 및 상기 방전 공간의 내부에 상기 음극과 이격되도록 구비되며, 외부로부터 인가되는 구동 전원과 연동하여 상기 음극과 사이에서 전기장을 형성하여 상기 가스를 이온화하는 양극을 포함할 수 있다. 이온 빔 소스는 전극에 증착되는 물질에 의한 아킹 발생을 최소화 할 수 있다.
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