특허보유현황
미세 패턴 및 투명 도전막의 제조 방법
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020120136561
출원일
2012-11-28
공개번호
1020140068721
공개일
2014-06-09
등록번호
1014376390000
등록일
2014-08-28
IPC 분류
H10F 71/00|H10K 71/00|H10F 77/20|H01L 51/56
대표도면
요약
본 발명에 따른 미세 패턴의 제조 방법은 기판 위에 금속막을 형성하는 단계, 금속막 위에 유-무기 복합막을 형성하는 단계, 유-무기 복합막을 임프린팅하여 마스크 패턴을 형성하는 단계, 마스크 패턴을 열처리하는 단계, 마스크 패턴을 식각 마스크로 상기 금속막을 식각하여 미세 패턴을 형성하는 단계, 식각 마스크를 제거하는 단계를 포함하고, 열처리로 상기 마스크 패턴의 크기가 감소한다.
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