특허보유현황
나노 패턴의 형성 방법
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020120152627
출원일
2012-12-24
등록번호
1013415480000
등록일
2013-12-09
IPC 분류
H10P 50/00|B82Y 40/00|C23F 1/02|C09K 3/18
대표도면
요약
본 발명은 별도의 나노 마스크를 이용하지 않는 나노 구조체를 균일하게 형성 방법을 구현하기 위하여, 기판 상에 도파민(dopamine)을 포함하는 층을 형성하는 단계, 상기 도파민을 포함하는 층 상에 비드(bead)들을 포함하는 분산용액을 코팅하여 비드층을 형성하는 단계 및 상기 비드층의 토폴로지를 이용하여 상기 기판을 식각함으로써, 상기 기판에 나노 돌기 패턴을 형성하는 단계를 포함하는, 나노 패턴의 형성 방법을 제공한다.
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