특허보유현황
※ 본 공고는 설정등록된 특허(특허법 제87조)를 기준으로 작성되었으며, 최신 특허출원은 설정등록 이후 순차적으로 반영됩니다.
양자점 정제 장치 및 그 제조 방법
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020130036021
출원일
2013-04-02
등록번호
1014041580000
등록일
2014-05-29
IPC 분류
B01D 57/02|B82B 3/00|C09K 11/00|B82Y 20/00
대표도면
요약
본 발명의 일 실시예에 따른 양자점 정제 장치는 서로 대향하고 있는 애노드 전극 및 캐소드 전극, 상기 애노드 전극과 캐소드 전극 사이에 서로 이격되어 형성되어 있으며 양자점 용액이 통과하는 복수개의 양자점 채널을 형성하는 복수개의 절연 부재, 상기 양자점 채널에 형성되어 있으며 상기 양자점 용액의 양자점을 흡착하는 양자점 흡착 부재를 포함할 수 있다. 따라서, 본 발명의 일 실시예에 따른 양자점 정제 장치 및 그 제조 방법은 양자점 용액이 통과할 수 있는 양자점 채널을 형성하고, 애노드 전극 위의 양자점 채널에 제1 흡착 미세 전극 및 제1 나노 구조물을 형성함으로써, 애노드 전극의 표면적을 최대화할 수 있으므로 애노드 전극 및 캐소드 전극에 전압을 인가하는 경우 전기 영동에 의한 양자점의 흡착 효과를 최대화할 수 있다.
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