특허보유현황

금속산화박막 패턴형성용 코팅제 및 나노임프린트를 이용한 금속산화박막 패턴형성방법
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020130056696
출원일
2013-05-20
공개번호
1020140136320
공개일
2014-11-28
등록번호
1014868880000
등록일
2015-01-21
IPC 분류
C09D 7/63|C09D 4/00|C09D 5/00|B29C 59/02|C09D 201/00|C09D 7/20
대표도면
금속산화박막 패턴형성용 코팅제 및 나노임프린트를 이용한 금속산화박막 패턴형성방법 대표도면
요약
금속산화박막 패턴형성용 코팅제 및 나노임프린트를 이용한 금속산화박막 패턴형성방법에 관한 것으로서, 경화시간을 단축시키고 임프린트를 가능하게 하는 최적의 코팅제를 사용하는 것으로, 본 발명의 일 구현예에 따른 지르코닐 2-에틸헥사노에이트(Zirconyl 2-ethylhexanoate) 및 지르코늄 카복시 에틸 아크릴레이트 (Zirconium carboxyethyl acrylate)로 이루어진 산화지르코늄 전구체, 개시제, 및 용매를 포함하는 것을 특징으로 하는 금속 산화박막 패턴형성용 코팅제 및 이를 이용한 나노 임프린트를 이용한 금속산화박막 패턴형성 방법이 제공된다.
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