특허보유현황
※ 본 공고는 설정등록된 특허(특허법 제87조)를 기준으로 작성되었으며, 최신 특허출원은 설정등록 이후 순차적으로 반영됩니다.
나노채널이 형성된 나노구조체의 제조방법
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020130090347
출원일
2013-07-30
등록번호
1014543130000
등록일
2014-10-17
IPC 분류
B82B 3/00|B82Y 40/00
대표도면
요약
본 발명은 나노채널이 형성된 나노구조체의 제조방법에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 나노채널이 형성된 나노구조체의 제조방법은 미세튜브의 내부가 충진되도록 용액을 주입하는 제1 주입단계; 상기 용액과 화학적 반응을 하지않는 유체를 상기 용액의 중앙부를 관통하도록 주입하여 나노채널을 형성하는 제2 주입단계; 및, 상기 유체를 제거하는 제거단계; 를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의하여, 용액의 주입 및 경화의 간단한 공정만으로 나노채널을 형성할 수 있고, 별도의 표면가공이 필요치 않으며, 용액의 성분에 따라 나노채널의 화학적, 전기적 및 물리적 기능을 부여하는 것이 용이한 나노채널이 형성된 나노구조체의 제조방법이 제공된다.
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