특허보유현황
나노채널 제작방법
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020130122055
출원일
2013-10-14
등록번호
1014081940000
등록일
2014-06-10
IPC 분류
G03F 7/20|G03F 7/26|G03F 7/32|H10D 62/10
대표도면
요약
본 발명은 나노채널 제작방법에 관한 것으로서, 기판에 관통공을 형성하는 관통공형성단계; 상기 관통공의 직경보다 작은 직경의 개구부가 형성되는 구조물을 상기 관통공의 입구 측에 형성하는 구조물형성단계; 상기 관통공의 내부에 감광제를 충진하는 충진단계; 빛이 상기 개구부를 통과할 때 발생하는 회절현상에 의해서 상기 관통공에 충진된 상기 감광제의 일부 영역이 노광되도록, 상기 구조물에 빛을 조사하는 조사단계; 상기 조사단계에서 노광된 상기 감광제를 제거하는 제거단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의하여, 경사형, 탄환형 또는 비대칭적인 내경이 형성되는 나노채널을 용이하게 제작할 수 있는 나노채널 제작방법이 제공된다.
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