특허보유현황
반도체 제조공정용 질소산화물 제거장치
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020130123485
출원일
2013-10-16
공개번호
1020150044279
공개일
2015-04-24
등록번호
1016234760000
등록일
2016-05-17
IPC 분류
H10P 72/00
대표도면
요약
본 발명의 목적은 스크러버 후단에서 질소산화물(NOx) 자체를 제거하기 위한 후처리 장치를 설치하여, 반도체 제조 공정에서 발생하는 질소산화물(NOx)을 제거하는 반도체 제조공정용 질소산화물 제거장치를 제공하는 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 제조공정용 질소산화물 제거장치는, 반도체 제조 공정을 수행하는 공정챔버에 연결되어 상기 공정챔버에서 배출되는 공정가스를 처리하는 번-웨트(burn-wet) 스크러버, 상기 번-웨트 스크러버에서 배출되는 입자상 물질을 제거하는 입자상 물질 제거부, 및 상기 입자상 물질이 제거된 공정가스에 포함된 질소산화물을 제거하는 질소산화물 제거부를 포함한다.
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