특허보유현황
임프린트 기법을 이용한 나노박막 패턴 형성·전사 방법 및 장치
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020130130742
출원일
2013-10-31
공개번호
1020150049776
공개일
2015-05-08
등록번호
1015799350000
등록일
2015-12-17
IPC 분류
B29C 59/02|B29C 33/42
대표도면
요약
본 발명은 임프린트 기법을 이용한 나노박막 패턴 형성·전사 방법 및 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 금속 기판에 형성된 나노박막에 임프린트 기법을 이용해 나노박막에 패턴을 형성하되 스탬프에 형성된 패턴에 의해 눌린 부분의 나노박막 상면이 금속 기판의 상면보다 하측으로 들어가도록 임프린트하고, 패턴이 형성된 나노박막을 원하는 타겟 기판에 전사할 수 있는 임프린트 기법을 이용한 나노박막 패턴 형성·전사 방법 및 장치에 관한 것이다.
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