특허보유현황
플라즈마 토치
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020130136523
출원일
2013-11-11
공개번호
1020150054280
공개일
2015-05-20
등록번호
1015738440000
등록일
2015-11-26
IPC 분류
H05H 1/34|H05H 1/28|B23K 10/02
대표도면
요약
본 발명의 목적은 처리기체를 아크 영역으로 직접 통과시켜 처리기체의 처리 효율을 높이는 플라즈마 토치를 제공하는 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 토치는, 일 방향으로 돌출되고 전압이 인가되는 전극, 절연부재를 개재하여 상기 전극을 수용하고 상기 전극과의 사이에 방전기체를 공급하는 제1통로를 형성하며, 1차로 접지되어 생성되는 아크를 제1토출구로 토출하는 제1하우징, 및 상기 제1하우징의 선단을 수용하여 처리기체를 공급하는 제2통로를 형성하고, 2차로 접지되어 상기 아크를 연장하여 상기 처리기체에 포함된 처리 대상물질을 연소시킨 아크 화염을 제2토출구로 토출하는 제2하우징을 포함한다.
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