특허보유현황
HfC 분말 및 이의 제조방법
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020140183130
출원일
2014-12-18
등록번호
1016334480000
등록일
2016-06-20
IPC 분류
C01B 31/30|C01G 27/02
대표도면
요약
본 발명은 hafnium oxide (HfO 2 ) 및 탄소원을 포함하는 혼합 슬러리를 제조하는 단계; 상기 혼합 슬러리를 건조하여, 혼합 분말을 제조하는 단계; 및 상기 혼합 분말을 가열하는 단계를 포함하고, 상기 혼합 분말을 가열하는 단계의 승온속도는 50 내지 300℃/min.인 것을 특징으로 하는 HfC 분말의 제조방법 에 관한 것으로, HfC 분말을 제조하기 위한 출발물질로써, hafnium oxide (HfO 2 ), 페놀수지 혹은 다른 탄소원을 출발물질로 사용하여, 이들을 물 혹은 유기용제의 내부에 용해시킨 후, 이를 다시 건조시킨 후, 기존에 비하여 월등히 빠른 50 내지 300℃/min.의 승온속도로 합성온도 까지 승온시킴으로써, 균일하고 미세한 크기를 갖는 나노 HfC 분말을 제조할 수 있다.
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