특허보유현황
리소그래피용 광학계 장치
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020150014868
출원일
2015-01-30
공개번호
1020160093936
공개일
2016-08-09
등록번호
1016589850000
등록일
2016-09-13
IPC 분류
H10P 76/00|G02B 27/10|G02B 5/30
대표도면
요약
본 발명의 목적은 바이오, 광학, 에너지 분야 등에 사용되는 나노 구조체를 광학 리소그래피로 제조함에 있어서, 최소 수십 nm 수준에서 최대 수백 μm 수준까지에 이르는 다양한 3차원 또는 2차원 형상의 제조가 용이하고 효과적으로 이루어질 수 있도록 하는, 리소그래피용 광학계 장치를 제공함에 있다. 보다 구체적으로는, 본 발명의 목적은 상술한 바와 같이 넓은 범위의 레지스트에 좁은 범위로 광을 조사하면서도 전체 두께에 걸쳐 올바르게 광이 조사되도록 하여, 선택적 레지스트 경화 공정의 정밀도 및 정확도를 향상할 수 있도록 하는, 리소그래피용 광학계 장치를 제공함에 있다.
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