특허보유현황
규칙적으로 배열되는 나노채널이 형성된 구조물 제조방법
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020150016212
출원일
2015-02-02
공개번호
1020160095288
공개일
2016-08-11
등록번호
1016502680000
등록일
2016-08-16
IPC 분류
B82B 3/00|H10P 10/00|H10P 50/00
대표도면
요약
본 발명은 규칙적으로 배열되는 나노채널이 형성된 구조물 제조방법에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 규칙적으로 배열되는 나노채널이 형성된 구조물 제조방법은 서로 다른 제1중합체와 제2중합체를 혼합하여 혼합물을 제조하는 혼합물 제조단계; 상기 혼합물을 기판에 적층하여 블록공중합체 박막이 형성된 구조체를 제조하는 박막 형성단계; 상기 제2중합체가 상기 제1중합체 상에서 규칙적으로 배열되도록 상기 구조체를 열처리하여 상기 블록공중합체가 자기조립하는 열처리 단계; 상기 제2중합체에 금속 이온을 결합시켜 나노 클러스트를 형성하는 결합단계; 상기 금속 이온과 결합되지 않은 블록공중합체를 제거하는 제거단계; 상기 나노 클러스트가 상기 기판을 관통하여 하방으로 이동함으로써 상기 기판 상에 규칙적으로 배열되는 나노채널이 형성되도록 에칭하는 에칭단계;를 포함하는 것을 특징으로 것을 특징으로 한다. 이에 의하여, 습식식각을 이용하되 실리콘 기판 상에 수직한 방향으로 규칙적으로 배열되며 종횡비가 우수한 나노 채널이 형성되는 규칙적으로 배열되는 나노채널이 형성된 구조물 제조방법이 제공된다.
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