특허보유현황
아닐린 기반 광경화성 폴리머 레진 복합체 및 이를 이용한 무잔류층 패턴 전사 방법
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020150018360
출원일
2015-02-06
등록번호
1015668060000
등록일
2015-11-02
IPC 분류
C08G 73/02|C08L 79/02|G03F 7/00|C08J 3/28
대표도면
요약
본 발명은 본 발명은 아닐린 기반 광경화성 폴리머 레진 복합체 및 이를 이용한 무잔류층 패턴 전사 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 나노 임프린트에 사용되는 폴리머 레진 복합체로써 폴리우레탄 아크릴레이트 레진과 아닐린 단량체를 혼합하여 제조되어 자외선에 의해 광중합하는 광경화성 폴리머 레진 복합체를 형성하고 이를 나노 임프린트에 사용하여 나노 임프린트에서 잔류층이 없이 나노 단위의 미세 패턴을 형성할 수 있는 아닐린 기반 광경화성 폴리머 레진 복합체 및 이를 이용한 무잔류층 패턴 전사 방법에 관한 것이다.
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