특허보유현황
적층형 슈퍼커패시터의 제조방법
출원인
한국기계연구원|한국전자통신연구원
등록상태
등록
출원번호
1020160022386
출원일
2016-02-25
등록번호
1017742530000
등록일
2017-08-29
IPC 분류
H01G 11/84|H01G 11/12|H01G 11/26
대표도면
요약
본 발명은 a) 제1금속박막 일면에 제1그래핀 집전체, 제1전극 및 제1분리막을 순차적으로 적층하여 제1적층체를 제조하는 단계; b) 제2금속박막 일면에 제2그래핀 집전체 및 제2전극을 순차적으로 적층하여 제2적층체를 제조하는 단계; c) 상기 제1적층체의 제1분리막 상에 상기 제2전극이 접하도록 제2적층체를 적층하여 제3적층체를 제조하는 단계; d) 상기 제3적층체를 압착처리하여 제1금속박막 및 제2금속박막이 박리된 단위적층체를 제조하는 단계; 및 e) 상기 단위적층체; 및 제2분리막 또는 절연막;을 교번 적층하는 단계;를 포함하는 적층형 슈퍼커패시터의 제조방법에 관한 것이다.
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