특허보유현황
레이저 직접 묘화 장치 및 레이저 직접 묘화 방법
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020160031095
출원일
2016-03-15
공개번호
1020170107300
공개일
2017-09-25
등록번호
1017844610000
등록일
2017-09-27
IPC 분류
G03F 7/20
대표도면
요약
본 발명은 공정 속도를 향상시키고 오차를 감소시킬 수 있는 레이저 직접 묘화 장치 및 레이저 직접 묘화 방법을 제공한다. 본 발명의 일 측면에 따른 레이저 직접 묘화 장치는 회전 가능하게 설치되며 다각형상의 단면을 갖는 폴리곤 스캐너, 가공 대상물이 위치하는 스테이지, 상기 스테이지를 이송시키는 스테이지 제어부, 상기 스테이지의 이동 오차를 측정하는 제1오차 측정부, 및 레이저 펄스를 온(on) 또는 오프(off)시키되, 상기 제1오차 측정부에서 전달된 신호를 바탕으로 상기 레이저 펄스의 온(on) 또는 오프(off)를 제어하여 오차를 보상하는 레이저 변조기를 포함한다.
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